目次
大日本科研の露光装置が選ばれる理由
豊富なラインナップとカスタマイズ
大日本科研の最大の強みは、お客様のニーズに合わせて多種多様な装置を開発してきた歴史に裏打ちされた、豊富な製品ラインナップです。研究開発向けの小型機から、大型の製造ライン用大型機まで、幅広いサイズ・用途に対応可能です。お客様の基材や製造プロセスに合わせた柔軟なカスタマイズで、「多様なニーズに対応できる」総合力で選ばれています。
企画からアフターケアまで誠実にサポート
当社は営業、技術、製造、メンテナンスの全部門が自社内にあり、お客様の課題解決にチーム一丸となって取り組みます。フットワークの軽さで、お客様のご要望に迅速かつ柔軟に対応できる体制が強みです。また、30年前に納入した装置のメンテナンスを現在も継続するなど、長期的な視点でお客様をサポートし続けます。故障が少なく、万一の際のケアも早い、この信頼関係がお客様に選ばれ続ける理由です。
3つのコア技術でお客様のニーズに対応
当社は「光源設計」「アライメント技術」「搬送技術」をコア技術として確立しています。多くのメーカーが外部から購入するこれらの基幹技術を、当社はすべて自社で開発・設計しています。これにより、お客様の微細なニーズにも対応した装置全体の柔軟なカスタマイズが可能。品質を重視した最適な一台をご提案します。
大日本科研のコア技術
自社設計により最適な光源を提案可能
露光装置の心臓部である光源は、その性能を左右する最も重要な要素です。大日本科研では、専門部門がお客様のニーズに合わせて光源を自社で設計・製造しています。小型から大型まで、さまざまな出力の光源を自社で用意できるため、基材やプロセスに最適な光を提案し、装置のパフォーマンスを最大限に引き出します。
自社アルゴリズムによる高精度アライメント
原版となるフォトマスクと基板を高精度に位置合わせするアライメント技術は、当社の大きな強みです。1µm（マイクロメートル）単位の精度に対応可能。さらに、当社はソフトウェアも自社開発しています。これにより、ゴミが多くて見えにくいマークの検出や、透明電極の下にあるマークの検出など、お客様が抱える多様な課題にも柔軟に対応できます。
特殊アライメントの事例
● 金属膜の下の透明電極(ITO)のマークを検出
● ゴミの多い基板からマークを検出
● ウエハのスクライブパターンに合せる
多様な基材の搬送に対応
大日本科研は、シリコンウェハやガラス基板はもちろん、セラミック、フィルム、紙のように薄いグリーンシートまで、多種多様な基材の搬送に対応できる技術力を持っています。反りや変形がある特殊な基材や、基材の表裏面に一切触れない非接触搬送など、豊富な実績があります。お客様から実際の基材をお預かりしてテストを行い、最適な搬送方法を確立した上で装置を製造するため、安心して導入いただけます。
特殊基材への対応事例
露光装置ラインナップ
実験・研究用露光装置
研究開発や多品種少量生産に最適な、手動操作のコンパクトなマスクアライナーです。省スペース設計ながら、独自の光学系と画像処理技術を搭載し、高精度な露光を実現します。カット基板や割れ基板といった特殊な基板のアライメントにも対応可能です。プロキシミティからバキュームコンタクトまで、4つの露光モードを備えています。
化合物半導体用露光装置(マスクアライナ)
シリコン（Si）のほか、GaN（窒化ガリウム）やInP（リン化インジウム）などの化合物半導体、水晶、セラミックなど、多様な基板に対応した全自動露光装置です。LED素子の製造などを中心に600台以上の納入実績があります。カセットをセットするだけで、基板の搬送からアライメント、露光までを自動で行い、生産効率の向上に貢献します。
Ø200mm Ø300mm対応露光装置
最大8インチ（Ø200mm）のウェハに対応した、全自動プロキシミティ露光装置です。独自の高速画像処理技術により、ウェハとマスクを±1μmという高い精度でアライメントします。非接触のプリアライナを搭載しており、基板を傷つけることなく高精度な送り込みを実現します。オプションでカセットの複数設置や、基板・マスクの温度管理にも対応可能です。
マスクレス露光装置
リソグラフィ工程で必要だったフォトマスク（原版）を一切使用せず、CADデータからダイレクトにパターンを描画する露光装置です。原版の設計・製造が不要になるため、開発コストの削減とリードタイムの大幅な短縮を実現します。最小線幅1µmの微細描画にも対応し、お客様の要望に応じて自動搬送システムを組み込むことも可能です。
FPD用露光装置
タッチパネル、カラーフィルター、有機EL（OLED）などの製造に用いられる、大型ガラス基板向けの量産用プロキシミティ露光装置です。最大で550×650mmの基板サイズに対応します。非接触の光学式ギャップセンサやエッジセンサを採用し、基板にダメージを与えることなく、高速・高精度なギャップ設定とアライメントを実現します。
フィルム用露光装置
PETフィルムなどの薄く柔軟なロール状の基材（ウェブ）に、連続して露光処理を行うロール・トゥ・ロール方式の自動露光装置です。FPC（フレキシブルプリント基板）や有機EL照明、電子ペーパーなどの量産に対応します。基材へのテンションを抑える縦型露光方式を採用し、マスクと基材の自動アライメントによって多層露光も可能です。
株式会社大日本科研について
オプトメカトロニクスのクリエーター
私たちは、自らを「オプトメカトロニクスのクリエーター」と位置づけています。「オプトメカトロニクス（Optomechatronics）」とは、「光学（Optics）」、「機械（Mechanics）」、「電気（Electronics）」の3つの技術を融合させた、当社の技術コンセプトです。従来のメカトロニクス（機械＋電気）は、多くの装置に採用されてきましたが、大日本科研ではさらに「光学」の要素を取り入れることで、新たな価値を創出しています。
当社は、量ではなく質を重視し、3つの技術を柱に、お客様の多様なニーズに誠実に応える装置づくりに取り組んでいます。
海外事業所
納入実績の多い中国、台湾、韓国には、当社製品を熟知した信頼性の高い現地代理店とのネットワークを構築しています。各国のサービス拠点が、納入後の装置のメンテナンスやアフターサービスを迅速かつ責任をもって行いますので、海外のお客様にも安心して当社製品をご利用いただけます。
| 韓国 |
|
|---|---|
| 台湾 |
|
| 中国 |
|
| インド |
|
企業概要
| 所在地 | 〒617-0002 京都府向日市寺戸町久々相1番地 |
|---|---|
| 設立年月 | 1967年2月 |
| URL | https://www.kakenjse.co.jp |